超伝導薄膜の作成技術：最近の展望

松田彩平成 19 年 6 月 6 日

目次

i

1 はじめに

最近、超伝導薄膜の作成技術の進歩に応じて、その産業における利用への期待は急速に高まっています。 ....

1.1 作成方法の発展状況 1.2 酸素含有量の影響 1.3 磁束の封入

2 可塑性基板との組み合せ

2

3 アニーリングについて

3

4 元素別に有望な組成比

4.1 Bi 系 4.2 Y 系

5 今後の課題

5

エネルギーギャップ E_{G} を持つ真性半導体の伝導電子密度を n，空気密度を p とおく．伝道電子と空孔をそれぞれ実行質量 m_{e}， m_{h} をもつ自由粒子とみなせば，

n = p = 2 \{\frac{2π\sqrt{m_{e}m_{h}}kT}{h^{2}} \}^{\frac{3}{2}} e^{−E_{G}/2kT}

となること，またこの電子系の Fermi ポテンシャルは

μ = \frac{1}{2}E_{G} + \frac{3}{4}kT log \frac{m_{h}}{m_{e}}

であることが示される．ただし， E_{G} ≫ kT とする．

図 1: 左側の図図 2: 右側の図ちょっと大きい

7